加熱陶瓷吸盤 Heater Ceramic Chuck

集「均勻加熱」
與「真空吸附」於一體，
為半導體與先進製程帶來
極致的穩定性。

本款多孔陶瓷加熱吸盤專為高精密檢測、接合製程以及薄片晶圓/薄膜處理而設計。不僅具備多孔陶瓷強大的均勻吸附能力，更導入了高精準度的加熱與控溫技術，是確保高階製程穩定運作的關鍵核心組件。